HELOS KR Vario
Sympatec HELOS KR Vario, 0.1 - 8,750 µm, máy đo nhiễu xạ laser
Đơn Giá
Liên hệ
Nhà Cung Cấp
SYMPATEC
Xuất Xứ
Đức
Đơn vị tính
BỘ
Thời gian giao hàng
16 - 20 tuần
Hiệu lực đến
31.12.2024
Dòng máy đo kích thước hạt Sympatec HELOS đã được chứng minh - với thiết lập nhiễu xạ tia song song cổ điển - cung cấp một công nghệ mạnh mẽ để phân tích phân bố kích thước hạt của bột, hạt, huyền phù, nhũ tương, phun và nhiều hệ thống hạt khác. Phạm vi kích thước từ dưới 0,1 µm đến 8.750 µm là chủ. Cảm biến mô-đun bộc lộ tính ưu việt thực sự của nó khi hoạt động với hệ thống cấp liệu và phân tán, đảm bảo thích ứng tốt nhất với mẫu sản phẩm.
Thông số
- Dải đo tổng thể [µm] 0.1 - 8,750
- Nguyên tắc nhiễu xạ laser
- Hướng phần nhiễu xạ bằng chùm tia song song
- Thấu kính quang học cở điển (ISO 13320)
- Khoảng đo mở cho phép khoảng cách đo duy nhất
- Nguồn sáng Helium-neon laser λ = 632.8 nm (Đỏ)
- Lớp bảo vệ 3R | 1 với thiết bị phân tán mở | đóng
- Đường kính chùm tia có thể điều chỉnh theo khoảng đo
- Mô-đun dải đo rời R1 - R8
- Đầu dò bán dẫn đa nguyên tố
- Đầu dò 31 nguyên tố thiết kế 180o để định hướng
- 3 yếu tố trung tâm để căn chỉnh tự động chính xác
- Tỷ lệ thu nhận 2.000 mẫu nhiễu xạ mỗi giây
- Ghi dữ liệu thô lên đến 248 cường độ
- Công thức đánh giá phân bố kích thước hạt FREE/ MIEE
- Độ chính xác <1%, Độ lặp <0.04%/0.3% (ướt/khô)
- Có thể kết hợp tất cả các thiết bị phân tán của HELOS
- Phù hợp ISO 13320 cho toàn dải đo
Tài liệu
Sản phẩm liên quan
